2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19a-A17-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A17 (E308)

11:45 〜 12:00

[19a-A17-10] 低温Kr/O2プラズマ酸化法によるSiO2/Si構造の作製および評価

藤川雄太,上野智雄,岩崎好孝 (東京農工大工)

キーワード:Kr,SiO2