[19a-A17-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19a-A17-4] La₂O₃/HfO₂/SiO₂積層絶縁膜Si-MOSキャパシタのフラットバンド電圧の測定

^○福井僚¹，中村嘉基¹，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，若林整²，杉井信之²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア¹，東工大総理工²)

キーワード：high-k膜