2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19a-A17-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A17 (E308)

10:30 〜 11:00

[19a-A17-6] 「応用物理学会優秀論文賞受賞記念講演」(30分)
Chemical Structure of Interfacial Transition Layer Formed on Si(100) and Its Dependence on Oxidation Temperature, Annealing in Forming Gas, and Difference in Oxidizing Species

諏訪智之1,寺本章伸1,熊谷勇喜1,阿部健一1,李翔1,中尾幸久1,山本雅士2,野平博司3,室隆桂之44,木下豊彦4,須川成利1,大見忠弘1,服部健雄1 (東北大1,ステラケミファ2,都市大3,JASRI4)