[19p-A10-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-A10-19] 金属元素ドープVO2薄膜における抵抗変化係数と抵抗率の温度履歴幅の相関

^○宮崎憲一¹，渋谷圭介²，鈴木愛美¹，岩城隆雄¹，和戸弘幸¹，藤田淳一³，澤彰仁² (デンソー基礎研¹，産総研²，筑波大³)

キーワード：ＶＯ２,元素ドーピング,ボロメータ