[19p-A12-1~16] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[19p-A12-11] 大気圧プラズマCVD法を用いたβ-Ga₂O₃薄膜の成長II

^○（M1）木口拓也¹，野瀬幸則¹，上原剛²，藤村紀文¹ (阪府大院工¹，積水インテグレーテッドリサーチ²)

キーワード：酸化ガリウム,大気圧プラズマ,CVD