2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19p-A17-1~11] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 17:00 A17 (E308)

14:45 〜 15:00

[19p-A17-4] ALD形成Al2O3/GeO2/p-Geの電気的特性に及ぼす熱処理効果の検討

梁池昂生1,横平知也1,山田大地1,王谷洋平1,関渓太2,佐藤哲也2,福田幸夫1 (諏訪東京理科大1,山梨大2)

キーワード:熱処理