2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-A19-1~15] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 18:00 A19 (E311)

14:15 〜 14:30

[19p-A19-2] ZrNx膜を用いた一体型バリヤの作製

佐藤勝,武山真弓,野矢厚 (北見工大)

キーワード:絶縁バリヤ,拡散バリヤ