2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-A19-1~15] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 18:00 A19 (E311)

15:15 〜 15:30

[19p-A19-6] Supercritical Fluid Chemical Deposition of Cu in Ru-lined Deep Nanotrenches using a New Cu(I) Amidinate Precursor

Md. Rasadujjaman1，渡邉満洋1，須藤弘2，町田英明2，○近藤英一1 (山梨大1，気相成長2)

キーワード：超臨界流体,Cu薄膜