2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

コードシェアセッション » 6.1強誘電体薄膜,9.1誘電材料・誘電体のコードシェアセッション

[19p-A9-1~15] 6.1強誘電体薄膜,9.1誘電材料・誘電体のコードシェアセッション

2014年9月19日(金) 13:15 〜 17:45 A9 (E208)

14:45 〜 15:00

[19p-A9-6] 斜方晶構造を持つエピタキシャルHfO2系薄膜の作製と評価

清水荘雄1,舟窪浩1,2 (東工大元素1,東工大総理工2)

キーワード:ハフニウム酸化物,強誘電体