[20a-A19-1~12] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20a-A19-7] ボロンシリサイドの低温酸化によるボロン拡散制御

^○古賀和博¹，梅山規男^1,2，居村史人¹，浅野均¹，遠江栄希¹，ソマワン クンプアン^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²)

キーワード：不純物拡散,Boron silicide