■ピコアンメータ ■イオンカウンタ ■酸素モニタ

■低インダクタンスアンテナ（LIA） ■大面積プラズマCVD装置

■スパッタリングターゲット ■蒸着材 ■貴金属化合物 ■貴金属コロイド ■貴金属ペースト ■白金系るつぼ ■薄膜電極 ■プレックスシート ■診断薬

■酸化ガリウム単結晶基板は、当社が世の中に先駆け実用化を進めている材料であり、可視光から紫外光領域まで透明で、電気を流すことができる新しい半導体用基板です。この基板を用いることで、今までにない大光量の光を出すLEDや超高耐圧のパワーデバイスの実現が可能となります。

■超低価格の中古機器情報満載。真空機器、半導体プロセス、分析装置など研究に役立つ、国内最大級のウェブサイトより、サンプルと情報出展。

■UHFLI ロックインアンプ ■HF2LI ロックインアンプ ■HF2PLL フェーズロックループ

■YAGレーザー薄膜加工システム ■ワイヤーボンダー ■電気計測用部品（コネクタ・ケーブル等）

■書籍 ■周期表 ■データ集

＜超精密な機械加工技術のご紹介＞ ■i Foil：大面積・長尺金属箔にRa1ナノの面粗さを実現いたしました。銅・ステンレス・ニッケルなど様々な材質に対応可能です。 ■i Roll：ロール形状への超精密鏡面加工技術を開発し、金属・ガラス、セラミックスなど様々な材質に対応しております。真円度・同軸度・真直度など高精度に確保しつつナノオーダーの面粗さを実現可能です。（最大サイズφ500*3500L...

■ナノクラスターソース ■電子ビーム蒸着源 ■RFアトム/イオンソース ■サーマルガスクラッカー ■その他薄膜成膜装置や各種真空システム

■SPECS Surface Nano Analysis社製品 1. 雰囲気光電子分光測定システム： PHOIBOS 150 NAP-XPS System 2. 電子スペクトロメータ半球型分析器： PHOIBOS HV, PHOIBOS 150 WAL, PHOIBOS 225, PHOIBOS 100/150 TOF (THEMIS 600/1000), HR EELS (DELTA 0....

■卓上型走査電子顕微鏡　TinySEM ■SEM用X線分析装置　TinyEDXS

■パワーデバイスIV測定システム ■マイクロ・ナノマニピュレーター ■太陽電池特性評価システム ■プラズマクリーナー

■Prevac社製　X線源、紫外線源、走査型電子銃、チャンバー照射用LEDライトシステム、蒸着用成膜コントローラ ■UHV Design社製　回転導入機、トランスファーロッド、ウォーブルスティック、中空型上下機構

■デジタルオシロスコープWaveRunner6Ziシリーズ: アナログ帯域幅4GHz, サンプリング・レート40GS/s，最大波形メモリ128Mpointの基本スペックに加え、レーザーパルス計測に役立つパルスパラメータ、最大トリガレート100万回/秒を実現するシーケンスモード、カスタム・パラメータやカスタム演算の作成による柔軟なカスタマイズ機能、パラメータのトレンド表示機能の他豊富な解析機能...

■Nanofinder〓FLEX モジュラー型3D顕微レーザーラマン分光装置 ■スーパーコンティニュアム白色光源 ■高性能分光用CCD/EMCCD検出器

■AC磁場ホール測定システム ■テラヘルツ分光システム ■磁気モーメント・着磁方向・磁束密度可視化装置 ■極低温プローブシステム

■スパッタリングターゲット ■MOCVD材料

■トヤマ製品（ＸＨＶ仕様マグネットカップリング、オールメタルＧＶ、ＵＨＶマニピュレータ、ＫＮ　ＴＯＦ－１８００）についてパネル展示、カタログ等