[17p-D6-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2014年3月17日(月) 14:00 〜 17:15 D6 (D209)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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昼食 12:30〜14:00 (12:30 〜 14:00)

14:00 〜 14:15

[17p-D6-1] ハニカム状scaffoldに堆積させたDLC膜のプラズマ処理による生体適合性の向上

^○（B）馬渕康史¹，多田晴菜¹，新井健司¹，大越康晴¹，平栗健二¹，深田直樹²，尾関和秀³ (東電大¹，物材研²，茨城大³)

14:15 〜 14:30

[17p-D6-2] ヨウ素添加非晶質カーボン膜の熱処理の影響

^○中尾節男¹，枩藤崇²，岸直希²，曽我哲夫²，松本章宏¹ (産総研¹，名工大²)

14:30 〜 14:45

[17p-D6-3] テトラメチルシラン添加炭化水素混合凝縮層ヘの低速電子線照射により極低温合成したa-C:Si:Hの物性評価

^○山田竜太郎，関渓太，坂巻直，小林直樹，佐藤哲也，中川清和 (山梨大院医工総研)

14:45 〜 15:00

△ [17p-D6-4] アモルファス窒化炭素薄膜の電気伝導度に及ぼす熱履歴の影響

^○田村尚之，青野祐美，原田人萌，北沢信章，渡邉芳久 (防大材料)

15:00 〜 15:15

△ [17p-D6-5] アモルファス窒化炭素薄膜における光応答速度の作製温度依存性

^○原田人萌，青野祐美，田村尚之，北沢信章，渡邉芳久 (防大材料)

15:15 〜 15:30

[17p-D6-6] スーパーマグネトロンプラズマによる電界放出用2層a-CNx:H膜の作製

^○木下治久，田口亮平 (静大院工)

休憩 15:30〜15:45 (15:30 〜 15:45)

15:45 〜 16:15

[17p-D6-7] 「薄膜・表面分科内招待講演」（30分）「光と薄膜」―プラズマの分光計測にもとづく炭素系薄膜の材料設計

^○伊藤治彦 (長岡技科大)

16:15 〜 16:30

△ [17p-D6-8] 低圧化学気相成長法によるグラフェン成長過程の反射高速電子回折その場観察

^○湊拓郎，中原仁，安坂幸師，齋藤弥八 (名大院工)

16:30 〜 16:45

△ [17p-D6-9] アモルファスカーボンの触媒金属支援熱処理によるSi₂上へのグラフェンの成長

^○長谷部洋平，中原仁，安坂幸師，齋藤弥八 (名大院工)

16:45 〜 17:00

[17p-D6-10] 酸素吸着グラフェンの高分解能ARPES

^○菅原克明¹，高橋徹²，野口英一²，JamesKleeman²，佐藤宇史²，高橋隆^1,2 (東北大WPI-AIMR¹，東北大院理²)

17:00 〜 17:15

△ [17p-D6-11] 同軸型アークプラズマ堆積法により作製されたホウ素ドープ超ナノ微結晶ダイヤモンド混相膜の電気特性と化学結合構造

^○片宗優貴¹，大曲新矢²，瀬戸山寛之³，吉武剛¹ (九大¹，産総研²，九州シンクロトロン光研究センター³)