[18a-E10-1~10] 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2014年3月18日(火) 09:00 〜 11:45 E10 (E204)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:00 〜 09:15

[18a-E10-1] スプレー法による酸化亜鉛薄膜の大面積化

^○明永裕樹¹，小林義典¹，宮地計二¹，井手亜貴子²，吉野賢二² (旭サナック¹，宮崎大工²)

09:15 〜 09:30

^○井上創太，菊池大樹，一柳成治，舩木修平，山田容士 (島大総理工)

09:30 〜 09:45

^○下村宏貴，山本伸一 (龍谷大)

09:45 〜 10:00

^○森達哉¹，安倍大²，千葉博¹，奥田修平¹，川島知之¹，鷲尾勝由^1,2 (東北大院工¹，東北大工²)

10:00 〜 10:15

^○牧野久雄，宋華平，野本淳一，山本哲也 (高知工科大総研)

休憩 10:15〜10:30 (10:15 〜 10:30)

10:30 〜 10:45

^○野本淳一¹，宋華平¹，牧野久雄¹，岸本誠一^1,2，山本哲也¹ (高知工科大総研¹，高知高専機械工学科²)

10:45 〜 11:00

^○宮田俊弘，山中俊憲，南内嗣 (金沢工大)

11:00 〜 11:15

^○廣橋拓也¹，太田将志¹，石原典隆¹，野中裕介¹，山﨑舜平¹，片山正博²，三澤千恵子²，中鉢由佳²，羽持貴士²，岡崎健一²，肥塚純一² (半エネ研¹，AFD Inc²)

11:15 〜 11:30

^○太田将志¹，石原典隆¹，黒澤陽一¹，野中裕介¹，廣橋拓也¹，高橋正弘¹，山﨑舜平¹，生内俊光²，保坂泰靖²，肥塚純一² (半エネ研¹，AFD Inc.²)

11:30 〜 11:45

^○中島基，広橋拓也，高橋正弘，山﨑舜平 (半エネ研)