[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:00 〜 09:15

[19a-E14-1] 液体シクロペンタシランを用いた大気圧CVD 法によるa-Si:H 薄膜の作製

^○高岸秀行^1,2，申仲栄^1,2，増田貴史^1,3，大平圭介^1,2,3，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ALCA²，北陸先端大GDRC³)

09:15 〜 09:30

^○（B）中村友彦，吉冨真也，蓮見真彦，鮫島俊之 (東京農工大)

09:30 〜 09:45

^○岡田竜弥，小田貴之，上原実結，野口隆 (琉大工)

09:45 〜 10:00

杉原弘也¹，下田清治¹，岡田竜弥¹，^○野口隆¹，宮下準弘²，楠田豊²，本山真一² (琉球大工¹，サムコ²)

10:00 〜 10:15

^○山野真幸¹，黒木伸一郎¹，佐藤旦¹，小谷光司²，吉川公麿¹ (広島大ナノデバイス¹，東北大工²)

休憩 10:15〜10:30 (10:15 〜 10:30)

10:30 〜 10:45

^○田中敬介，林将平，東清一郎 (広大院先端研)

10:45 〜 11:00

^○森崎誠司，林将平，上倉敬弘，山本将悟，山根雅人，中谷太一，東清一郎 (広大院先端研)

11:00 〜 11:15

^○赤澤宗樹，酒池耕平，中村将吾，東清一郎 (広大院先端研)

11:15 〜 11:30

^○ソマワンクンプアン^1,2，長尾昌善¹，松川貴¹，遠藤和彦¹，昌原明植¹，原史朗^1,2 (産総研¹，ミニマルファブ技術研究組合²)

11:30 〜 11:45

^○SommawanKhumpuang^1,2，長尾昌善¹，松川貴¹，遠藤和彦¹，昌原明植¹，原史朗^1,2 (産総研¹，ミニマルファブ技術研究組合²)