[17a-E11-6~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[17a-E11-9] ウェハその場曲率測定により薄膜化したメタモルフィックバッファを用いたレーザ構造成長後の反り低減

^○中尾亮，荒井昌和，伊賀龍三，神徳正樹 (NTTフォトニクス研)

キーワード：メタモルフィック,その場測定,ウェハ曲率