[17p-F2-1~17] 8.2 プラズマ診断・計測

[17p-F2-8] プロセス履歴のチャンバー壁表面損失確率への影響とH₂/N₂プラズマ中のラジカル密度の時間変化

^○鈴木俊哉，福永裕介，竹田圭吾，近藤博基，石川健治，関根誠，掘勝 (名大院工)

キーワード：Etching,Radical density,Surface loss