2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[17p-PG2-1~23] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年3月17日(月) 16:00 〜 18:00 PG2 (G棟2階)

16:00 〜 18:00

[17p-PG2-16] 反応性RFマグネトロンスパッタ法により作製されたニオブ系酸化物薄膜の組成評価

與田将士,鶴岡拓朗,桟敷剛,岡野寛 (香川高専)

キーワード:ニオブ系酸化物薄膜