[17p-PG3-1~30] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[17p-PG3-16] 静電噴霧法を用いたITO/Ag/ITO積層構造薄膜の評価

^○今井敬太¹，下村宏貴¹，山本伸一¹，吉岡秀樹² (龍谷大理工¹，兵庫工技セ²)

キーワード：静電噴霧法,ITO