2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)

09:30 〜 09:45

[18a-E14-3] 赤外線吸収膜としてSiONを用いた焦電型赤外線センサの作製と評価

大江一樹1,米丸翔太1,大石浩史1,赤井大輔1,2,石田誠1,2 (豊橋技科大工1,豊橋技科大EIIRIS2)

キーワード:赤外線センサ,吸収膜