2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

03.光 » 3.3 機器・デバイス光学

[18a-F10-1~7] 3.3 機器・デバイス光学

2014年3月18日(火) 09:00 〜 10:45 F10 (F406)

10:00 〜 10:15

[18a-F10-5] 金属微細周期構造の近接場と内部反射光の位相シフトを考慮した有効媒質モデルのためのパラメータ抽出法

水谷彰夫,菊田久雄 (阪府大)

キーワード:RCWA,有効媒質理論