[18p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

△ [18p-E14-11] 表面増強ラマン散乱を用いた歪Si異方性二軸応力のパターンサイズ依存測定

^○岩崎竜平，永田晃基，小瀬村大亮，小椋厚志 (明大理工)

キーワード：ラマン分光法,歪Si,表面プラズモン共鳴