2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月18日(火) 13:15 〜 18:45 E14 (E302)

14:30 〜 14:45

[18p-E14-6] 低温接着および厚膜マイクロ流路チャネル形成用感光性材料

稗田克彦1,山口宙志1,小宮全1,宮崎智和2,SaraPeeters2,JohnO‘callghan3,KarolienJans3,ChengxunLiu3,LiesbetLagae3,ParuDeshpande3 (JSR1,JSR Micro N.V.2,IMEC3)

キーワード:マイクロ流路,低温接着剤,感光性材料