[18p-PA8-1~14] 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野

[18p-PA8-1] 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱を用いた多結晶Si膜形成とデバイスプロセス応用

^○中家大希¹，上村和貴¹，荒井哲司¹，有元圭介¹，山中淳二¹，佐藤哲也¹，中川清和¹，高松利行²，澤野憲太郎³ (山梨大¹，SST²，東京都市大³)

キーワード：水素ラジカル,多結晶Si,選択加熱