2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[18p-PG3-1~19] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2014年3月18日(火) 13:30 〜 15:30 PG3 (G棟2階)

13:30 〜 15:30

[18p-PG3-5] GaN/AlN共鳴トンネルダイオードの電流電圧特性-温度依存性-

永瀬成範1,高橋言緒2,清水三聡2 (産総研ナノシステム1,産総研先進パワエレ2)

キーワード:共鳴トンネルダイオード,窒化物半導体,有機金属気相成長法