2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16.非晶質・微結晶 » 16.2 プロセス技術・デバイス

[19a-D2-1~11] 16.2 プロセス技術・デバイス

2014年3月19日(水) 09:30 〜 12:30 D2 (D113)

12:00 〜 12:15

[19a-D2-10] メニスカス力による大面積転写技術を用いて形成されたPET基板上単結晶シリコン膜の密着性改善

中村将吾,酒池耕平,赤澤宗樹,東清一郎 (広大院先端研)

キーワード:中空構造SOI層,メニスカス,転写