[19a-D2-1~11] 16.2 プロセス技術・デバイス

[19a-D2-3] 溶液プロセスa-Si:H膜の基礎物性の焼成時間依存性

^○（M2）佐久間陽¹，大平圭介^1,2，増田貴史^1,3，申仲栄^1,2，高岸秀行^1,2，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ALCA²，JST-ERATO³)

キーワード：溶液プロセス,液体シリコン,a-Si