[19a-D9-1~13] 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション

[19a-D9-5] in situ XPSを用いた湿度制御時のGeO₂/GeとSiO₂/Siの濡れ性比較

^○有馬健太¹，河合佳枝¹，箕浦佑也¹，齋藤雄介¹，森大地¹，川合健太郎¹，細井卓治¹，渡部平司¹，森田瑞穂¹，ZhiLiu² (阪大院工¹，バークレー国立研²)

キーワード：X線光電子分光,濡れ性,極薄酸化物