[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-E14-1] 液体シクロペンタシランを用いた大気圧CVD 法によるa-Si:H 薄膜の作製

^○高岸秀行^1,2，申仲栄^1,2，増田貴史^1,3，大平圭介^1,2,3，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ALCA²，北陸先端大GDRC³)

キーワード：アモルファスシリコン薄膜,大気圧CVD,cyclopentasilane