[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-E14-3] 青色半導体レーザ照射中Si膜の温度分布解析

^○岡田竜弥，小田貴之，上原実結，野口隆 (琉大工)

キーワード：青色半導体レーザ