[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

△ [19a-E14-8] メニスカス力を用いた局所転写によるガラス基板上高性能nチャネルSi MOSFETの作製

^○赤澤宗樹，酒池耕平，中村将吾，東清一郎 (広大院 先端研)

キーワード：転写,単結晶Si,歪シリコン