11:15 〜 11:30
[19a-E4-4] 「第5回シリコンテクノロジー分科会研究奨励賞受賞記念講演」（15分）リコン電極上に成膜したフッ化カルシウム薄膜のバイポーラ抵抗変化特性
キーワード：抵抗変化,フッ化カルシウム,メモリスタ
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シリコンテクノロジー分科会論文賞および奨励賞記念講演
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[19a-E4-1~5] シリコンテクノロジー分科会論文賞および奨励賞記念講演
2014年3月19日(水) 10:00 〜 11:45 E4 (E104)