[19a-F6-1~6] 8.4 プラズマエッチング

[19a-F6-4] 誘導結合Cl₂プラズマSiエッチングにおける表面ラフネスの解析

^○（D）中崎暢也¹，松本悠²，鷹尾祥典¹，江利口浩二¹，斧高一¹ (京大院工¹，京大工²)

キーワード：Si etching,Inductively coupled Cl2 plasma,Surface roughness