[19a-F8-1~12] 5.3 光制御

[19a-F8-1] ECRプラズマCVD法により製膜したSiON膜のN-H基低減

^○岡崎功太，西英隆，土澤泰，山田浩治，山本剛 (ＮＴＴ ＭＩ研)

キーワード：Si フォトニクス,石英導波路,SiON導波路