2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

08．プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[19a-PA4-1~12] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2014年3月19日(水) 09:30 〜 11:30 PA4 (アリーナ)

09:30 〜 11:30

[19a-PA4-8] VHF-PECVDで形成したSiNx膜中の化学結合経時変化(II)

○小林信一 (東京工芸大工)

キーワード：窒化シリコン膜,化学的気相成長,プラズマ成膜