[19p-D3-1~14] 14.1 探索的材料物性

[19p-D3-10] スパッタリング法による低残留キャリア密度β-FeSi₂多結晶薄膜の作製と電気伝導機構の評価

^○（B）服部哲，東貴彦，塚本裕明，山口陽己，寺井慶和 (鹿児島大 工)

キーワード：シリサイド