[19p-D6-1~18] 6.4 薄膜新材料

△ [19p-D6-9] RFマグネトロンスパッタリング法による高In組成ZnInON膜の作製

^○松島宏一¹，清水僚太¹，井手智章¹，山下大輔¹，鎌滝晋礼¹，徐鉉雄¹，古閑一憲¹，白谷正治¹，板垣奈穂^1,2 (九州大¹，JSTさきがけ²)

キーワード：ZnInON,sputtering,oxynitride