2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[19p-D8-1~13] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2014年3月19日(水) 14:00 〜 17:30 D8 (D215)

14:30 〜 14:45

[19p-D8-3] プラズマ照射により不活性化されたn型GaN中ドナーの近赤外光照射による再活性化

横山大樹,中村成志,奥村次徳 (首都大理工)

キーワード:GaN,欠陥,plasma