2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 13:15 〜 18:45 E14 (E302)

16:15 〜 16:30

[19p-E14-12] ミニマル抵抗加熱炉で形成した熱酸化膜の電気的特性

中戸克彦1,浅野均1,鈴木真之佑1,3,松田祥吾1,3,柳沼綾美1,3,森川清彦1,3,服部昌1,3,三ヶ原孝則1,池田伸一1,2,ソマワンクンプアン1,2,原史朗1,2 (ミニマルファブ技術研究組合1,産総研2,光洋サーモシステム3)

キーワード:ミニマル