[19p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-E14-16] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(2)

李寧¹，^○羽深等¹，池田伸一^2,3，石田夕起^2、3，原史朗^2,3 (横国大院工¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

キーワード：ミニマルマニュファクチャリング,化学気相堆積法