2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 13:15 〜 18:45 E14 (E302)

14:30 〜 14:45

[19p-E14-6] ミニマル装置におけるウェハ洗浄プロセス

奥田修史1,松田苑子2,後藤昭広2,ソマワンクンプアン1,3,原史朗1,3 (ミニマルファブ1,プレテック2,産総研3)

キーワード:minimal,洗浄