[19p-E8-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-E8-15] ReRAM向け300mm量産用スパッタ成膜技術の開発

^○福田夏樹，福寿和紀，西岡浩，鄒弘綱 (アルバック半電研)

キーワード：ReRAM,抵抗変化メモリ,Sputtering