[19p-F11-1~18] 9.4 熱電変換

△ [19p-F11-8] エピタキシャルSiナノドット積層構造へのドーピング技術開発とその熱電特性

^○上田智広¹，中村芳明^1,2，竹内正太郎¹，酒井朗¹ (阪大院基礎工¹，さきがけ-JST²)

キーワード：Si,ドーピング,ナノドット