[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-10] 反応性RFスパッター法によるp-Ge基板上へのGeO₂薄膜形成

^○柳炳學¹，関渓太²，菊地泰斗¹，梁池昂生¹，石崎博基¹，王谷洋平¹，佐藤哲也²，福田幸夫¹ (諏訪東京理科大¹，山梨大²)

キーワード：スパッター