[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-2] シリコン欠損を有するSiN_x膜中へのH₂O, HBr分子の透過

^○奥友希，志賀俊彦，戸塚正裕，竹見政義 (三菱電機 波光電)

キーワード：シリコン窒化膜,耐湿性,窒素ダングリングボンド