2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月19日(水) 16:00 〜 18:00 PG2 (G棟2階)

16:00 〜 18:00

[19p-PG2-3] シリコン表面の酸化膜密度分布

○(M2)土井修平,林真理子,蓮沼隆,山部紀久夫 (筑波大)

キーワード:膜密度,シリコン