[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-4] 極薄アモルファス及び多結晶HfO₂膜の信頼性評価

^○戸村有佑¹，蓮沼隆¹，山部紀久夫¹，右田真司² (筑波大院¹，産総研²)

キーワード：HfO2,TDDB,high-k