2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月19日(水) 16:00 〜 18:00 PG2 (G棟2階)

16:00 〜 18:00

[19p-PG2-9] マイクロ波生成酸素ラジカル照射によるGe表面の酸化

梁池昂生1,原田力維1,柳炳學1,関渓太2,石崎博基1,王谷洋平1,佐藤哲也2,福田幸夫1 (諏訪東京理科大1,山梨大2)

キーワード:GeO2