[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-9] マイクロ波生成酸素ラジカル照射によるGe表面の酸化

^○梁池昂生¹，原田力維¹，柳炳學¹，関渓太²，石崎博基¹，王谷洋平¹，佐藤哲也²，福田幸夫¹ (諏訪東京理科大¹，山梨大²)

キーワード：GeO2