[19p-PG3-1~32] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-PG3-17] 3次元アトムプローブ法を用いた分子ドーピング形成によるシリコン表面上のリンと不純物原子の挙動評価

^○清水康雄¹，高見澤悠¹，井上耕治¹，矢野史子^1,2，永井康介¹，LucaLamagna³，GiovanniMazzeo^3,4，MichelePerego³，EnricoPrati³ (東北大金研¹，東京都市大²，Laboratorio MDM, CNR-IMM³，Universita di Milano Bicocca⁴)

キーワード：アトムプローブ,分子ドーピング法