2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[20a-D8-1~11] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2014年3月20日(木) 09:00 〜 12:00 D8 (D215)

09:30 〜 09:45

[20a-D8-3] Siイオン注入を用いて作製したディプレッションモードGa2O3 MOSFET

東脇正高1,佐々木公平2,1,ワンマンホイ1,上村崇史1,キルシナムルティダイワシガマニ1,倉又朗人2,増井建和3,山腰茂伸2 (情通研機構1,タムラ製作所2,光波3)

キーワード:酸化ガリウム,Ga2O3,MOSFET