2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月20日(木) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)

11:30 〜 11:45

[20a-E14-10] NiSi/Siショットキー障壁を変調する硫黄不純物の電子状態解析

丸亀孝生,吉木昌彦,西義史,加藤弘一,三谷祐一郎 (東芝研開セ)

キーワード:NiSi/Si,ショットキー